Revêtements obtenus par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification
Primary tabs
Reference:
ISO 25164:2026
Publication Year:
2026
Domain:
Le présent document spécifie les exigences techniques relatives aux couches minces de TiAlSiN déposées par pulvérisation cathodique par magnétron.
Le présent document s'applique également au dépôt de couches minces de TiN, TiAlN ou TiSiN.
26 500 F CFA
LATEST NEWS
Water is essential to life. It is also vital to achieving more inclusive and sustainable development. That's why...
From 25 to 26 August 2022, ASN held a mission to popularize ISO standards in the field of on-site sanitation in Togo...
We are pleased to announce that the Director General of the Senegalese Association for...
The Senegalese Association for Standardization (ASN) celebrated on November 11, 2022 the World...
