Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l'analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF)

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.