Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Profilage d'épaisseur non destructif de films minces d'oxydes de métaux lourds à l'échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d'ions de moyenne énergie
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This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
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